+8613140018814
Alumīnija silīcija (Al/Si) izsmidzināšanas mērķi
video
Alumīnija silīcija (Al/Si) izsmidzināšanas mērķi

Alumīnija silīcija (Al/Si) izsmidzināšanas mērķi

Alumīnija silīcija (Al/Si) izsmidzināšanas mērķi ir sakausējumu mērķi, kas izgatavoti no alumīnija un silīcija. Tie var izturēt augstu temperatūru un jonu bombardēšanu, lai iegūtu vienveidīgas, blīvas un augstas veiktspējas sakausējumu plēves, kuras plaši izmanto pusvadītājos, plakano paneļu displejos, saules baterijās, optoelektroniskajās ierīcēs, magnētiskajā uzglabāšanas vidē un citos augsto tehnoloģiju laukos. Parasti silīcija saturu var pielāgot noteiktā diapazonā, lai tas atbilstu dažādām lietojumprogrammu prasībām. Ja jums ir kādi jautājumi par šī produkta informāciju vai piegādes laiku, nevilcinieties sazināties ar mums vietnē admin@fanmetalloy.com. Mēs ceram uz jūsu ziņojumu.
Nosūtīt pieprasījumu
Product Details ofAlumīnija silīcija (Al/Si) izsmidzināšanas mērķi

Alumīnija silīcija (Al/Si) izsmidzināšanas mērķi Apraksts

Materiālu izvēle un apstrāde

Mēs varam izmantot pulvera metalurģiju, liešanu vai karstu presēšanu ražošanai. Pulvera metalurģijas izgatavotā mērķa iekšējā struktūra ir vienmērīga, kas ir ļoti piemērota sakausējumu mērķu ražošanai. Liešana ir piemērota liela mēroga augstas tīrības mērķu ražošanai. Visiem procesiem jābūt ar virsmu apstrādājamiem un pilnībā pārbaudītiem kvalitātes pārbaudēm pēc pabeigšanas.

Raksturojums

Augsta tīrība, augsts blīvums, augstas dimensijas precizitāte, laba apstrādes veiktspēja un augstas pārklājuma kvalitāte.

Lieliska izturība pret koroziju, augsta izturība pret stabilitāti, izturība pret triecieniem, izturība pret nogurumu un ilgs kalpošanas laiks.

Lieliska elektriskā un siltumvadītspēja var pārraidīt strāvu ar lielu ātrumu, labu siltuma izkliedes efektu.

Izturīgs pret kodolenerģijas starojumu, videi draudzīgs un netoksisks, augsts pārstrādes ātrums, gand ood ekonomiskie ieguvumi.

Pieteikums

Aluminum Silicon (Al/Si) Sputtering Targets are mainly used in semiconductor manufacturing, optoelectronic display technology, solar cells, magnetic storage media, decorative and wear-resistant coatings, aerospace or medical equipment, etc. They can sputter transparent conductive films, shielding layers, anti-etching coatings, reflective and anti-reflective layers, antioxidant films, magnetic metal films, Dekoratīvie pārklājumi ar augstu spīdumu, pretkorozijas pārklājumi, izturīgi izturīgi pārklājumi ar augstu temperatūru, bioloģiski saderīgas plēves un citas metāla plēves vai pārklājumi ar dažādām īpašībām, lai izpildītu uzklāšanas prasības.

FanMetal var nodrošināt klientiem augstas kvalitātesCirkonija mērķi, Hroma mērķis, Titāna alumīnija tiāls mērķis, Rentgena caurules volframa mērķi, Titāna ti izspiešanas mērķisun citi augstas tīrības mērķi un sakausējuma mērķi, kā arī var nodrošināt pielāgotu ražošanu.

 

Alumīnija silīcija (Al/Si) izsmidzināšanas mērķu specifikācijas:

Pakāpe

Al80SI20

Tīrība

99.95%-99.999%

Diametrs

20-350 mm

Biezums

10-40 mm

Blīvums

2. 6-2. 7g/cm3

Virsma

Ar augstu slīpētu

Ierakstīt

Ap

Dzemdību laiks

7-20 dienas

Sertifikācija

ISO 9001

Alumīnija silīcija (Al/Si) izsmidzināšana mērķē attēlus

Al80 Si20 Sputtering Target

Metal Sputtering Targets

Populāri tagi: Alumīnija silīcija (Al/Si) izsmidzināšanas mērķi, piegādātāji, ražotāji, rūpnīca, pielāgots, vairumtirdzniecība, cena, cena, pārdošana

Nosūtīt pieprasījumu

(0/10)

clearall