Niķeļa hroma rotācijas izsmidzināšanas mērķis

Niķeļa hroma rotācijas izsmidzināšanas mērķa apraksts

Niķeļa hroma rotācijas izsmidzināšanas mērķi parasti tiek izgatavoti, kausējot un lejot pēc trīsslāņu elektrolīzes procesa, kā arī virknes mehāniskās apstrādes, piemēram, slīpēšanas, latošanas, velmēšanas un griešanas, ar tīrības pakāpi no 99,5 līdz 99,99 procentiem. Plānām kārtiņām, kas izputinātas ar niķeļa hroma rotējošiem izsmidzināšanas mērķiem, ir zema temperatūras atkarība, augsta pretestība, augsts jutības koeficients, augsta elektriskā un siltuma vadītspēja, lieliska oksidācijas pretestība, vienmērīga mikrostruktūra, gluda virsma bez porām un laba izturība utt. Salīdzinājumā ar citiem sakausējumu izsmidzināšanas mērķiem. , tam ir labākas fizikālās un ķīmiskās īpašības. PVD vai CVD pārklājumu rūpniecībā niķeļa hroma rotācijas izsmidzināšanas mērķi un to plēves plaši izmanto virsmas stiprināšanas plēvēs, piemēram, nodilumizturībā, nodiluma samazināšanas, karstumizturības un korozijas izturības, kā arī zemas emisijas stikla, mikroelektronikas, magnētiskās ierakstīšanas plēvēs. , pusvadītāju un plānās plēves rezistori un citas augstākās klases tehnoloģiju nozares.

Niķeļa hroma rotācijas izsmidzināšanas mērķis Specifikācijas:

Niķeļa hroma rotācijas izsmidzināšanas mērķa attēli:

Populāri tagi: niķeļa hroma rotācijas izsmidzināšanas mērķis, piegādātāji, ražotāji, rūpnīca, pielāgota, vairumtirdzniecība, cena, piedāvājums, pārdošana