Titāna silīcija izsmidzināšanas mērķi

Titāna silīcija izsmidzināšanas mērķi Apraksts

Magnetronu izsmidzināšanas pārklājums ir jauna veida fizikālā tvaika pārklāšanas metode, kurā tiek izmantota elektronu lielgabala sistēma, lai emitētu un fokusētu elektronus uz pārklājamo materiālu, lai izsmidzinātie atomi ievērotu impulsa pārveidošanas principu, lai materiālam būtu augstāks mehāniskais spēks. īpašības. Pārklājamo materiālu sauc par izsmidzināšanas mērķi, kas galvenokārt ietver metālus, sakausējumus un keramikas savienojumus. Titāna silīcija izsmidzināšanas mērķi var iedalīt plakanā mērķī, loka mērķī, cilindriskā mērķī un cauruļveida mērķī. To bieži ražo pulvermetalurģijas procesā, un tam ir lieliskas fizikālās un ķīmiskās īpašības. Titāna silīcija izsmidzināšanas mērķi ir ideāla nitrīda cietā materiāla slāņu kombinācija, silīcijs garantē augstu oksidācijas izturību, bet titāns nodrošina izcilu cietību un nodilumizturību. Titāna silīcija izsmidzināšanas mērķi tiek plaši izmantoti plānslāņa uzklāšanā, stikla rūpniecībā, vakuuma pārklāšanā, pusvadītāju rūpniecībā, elektronikas rūpniecībā, magnetronu izsmidzināšanas tehnoloģijā un dekoratīvo pārklājumu rūpniecībā.

Titāna silīcija izsmidzināšanas mērķu specifikācijas:

Titāna silīcija izsmidzināšanas mērķu attēli:

Populāri tagi: titāna silīcija izsmidzināšanas mērķi, piegādātāji, ražotāji, rūpnīca, pielāgota, vairumtirdzniecība, cena, piedāvājums, pārdošanai