Volframa jonu implantācijas daļa
Volframa jonu implantācijas daļas apraksts
Jonu implantācija ir jauna materiāla virsmas modifikācijas tehnoloģija, kas var optimizēt materiālu virsmas īpašības vai iegūt dažas jaunas izcilas īpašības, un tai ir svarīga loma pusvadītāju un integrālo shēmu ražošanā. Tā kā volframa materiāla priekšrocības ir augsts blīvums, augsts kušanas punkts, stabilas augstas temperatūras ķīmiskās īpašības, neliela termiskā denaturācija, laba siltumvadītspēja un ilgs kalpošanas laiks, tas ir kļuvis par pirmo izvēli jonu avotiem un palīgmateriāliem jonu implantētājiem pusvadītāju rūpniecībā. . Volframa jonu implantācijas daļa parasti tiek izgatavota, izmantojot pulvermetalurģijas tehnoloģiju, un parasti tajā ietilpst emisijas katoda ekranēšanas cilindrs, emisijas panelis, centrālais fiksētais stienis un kvēldiega plāksne loka ierosināšanas kamerā. Volframa jonu implantācijas daļu var plaši izmantot aviācijā, zinātniskos eksperimentos, metāla apstrādē, augstas temperatūras krāsnī, safīra rafinēšanas rūpniecībā un keramikas rūpniecībā.
Volframa jonu implantācijas daļas specifikācijas:
|
Novērtējums |
W1,W2 |
|
Tehnika |
Velmēšana, kalšana, saplacināšana, rūdīšana, apstrāde |
|
Kušanas punkts |
3410 grādi |
|
Tīrība |
Lielāks vai vienāds ar 99,95 procentiem |
|
Izmērs un forma |
Pēc zīmējumiem |
|
Maksimālais ārējais diametrs |
800 mm |
|
Blīvums |
19.3g/cm3 |
|
Virsma |
Pulēšana, ķīmiskā tīrīšana, pulverkrāsošana utt. |
|
Standarta |
ASTM B777, DIN, GB, ISO, JIS |
|
Sertifikācija |
ISO9001 |
Volframa jonu implantācijas daļas attēli:


Populāri tagi: volframa jonu implantācijas daļa, piegādātāji, ražotāji, rūpnīca, pielāgota, vairumtirdzniecība, cena, piedāvājums, pārdošana
Nosūtīt pieprasījumu


