Sputtering Mērķis

Volframa apļveida izsmidzināšanas mērķi

Volframa apļveida izsmidzināšanas mērķi Apraksts Volframam kā parasti izmantotajam mērķa materiālam ir galvenā loma rentgenstaru lampās. Katoda darba temperatūra ir aptuveni 2000K. Izstarotie

Pievienot izmeklēšanai
Augstas tīrības pakāpes volframa apaļie mērķi

Augstas tīrības pakāpes volframa apaļie mērķi Apraksts Augstas tīrības pakāpes volframa apaļie mērķi ir visbiežāk izmantotie mērķmateriāli salīdzinājumā ar berilija logiem. Tiem ir augsts atomu

Pievienot izmeklēšanai
PVD 4N niķeļa izsmidzināšanas mērķis

PVD 4N Nickel Sputtering Target Apraksts PVD 4N Nickel Sputtering Target ir mērķis, kas izgatavots no augstas tīrības pakāpes niķeļa materiāla PVD tehnoloģijai, kas ļauj iegūt plānas plēves ar izcilu

Pievienot izmeklēšanai
Titāna alumīnija apaļie mērķi

Titāna alumīnija apaļie mērķi Apraksts Titāna alumīnija apaļie mērķi ir parasti izmantotie metāla mērķi vakuuma pārklājumam. Sajaucot titāna un alumīnija saturu, var iegūt dažādas īpašības. Tie ir

Pievienot izmeklēšanai
Augstas tīrības pakāpes bora mērķi

Augstas tīrības pakāpes bora mērķi Īpašības un pielietojums Pārklājuma mērķis ir izsmidzināšanas avots, kas veido dažādas funkcionālas plēves uz substrāta, izmantojot magnetronu izsmidzināšanu,

Pievienot izmeklēšanai
99,99% niķeļa apaļais mērķis

99,99% niķeļa apaļais mērķa apraksts Springing mērķa attiecas uz izejvielu, ko izmanto izsmidzināšanas nogulsnēšanas procesā. Tas attiecas uz procesu, kurā atomi tiek izmesti no cietā mērķa,

Pievienot izmeklēšanai
Tīra niķeļa metāla mērķis

Tīra niķeļa metāla mērķis Apraksts Niķelis ir sudrabbalts metāls ar magnētiskām īpašībām un labu plastiskumu, ko galvenokārt izmanto sakausējumos (piemēram, niķeļa tēraudā un niķeļa sudrabā) un kā

Pievienot izmeklēšanai
Niķeļa Ni izsmidzināšanas mērķis

Niķeļa Ni izsmidzināšanas mērķa īpašības un pielietojums Niķelis ir sudrabaini balts metālisks elements ar labu elastību, stingrību un augstu kušanas temperatūru. Rūpniecībā niķeli parasti izmanto

Pievienot izmeklēšanai
99,99% niķeļa izsmidzināšanas mērķi

99,99% niķeļa izsmidzināšanas mērķi Apraksts Mērķa materiāls ir materiāls, ko izmanto kā izsmidzināšanas vai iztvaikošanas avotu fiziskās tvaiku pārklāšanas (PVD) vai ķīmiskās tvaiku pārklāšanas

Pievienot izmeklēšanai
Augstas tīrības pakāpes 4N niķeļa izsmidzināšanas mērķis

Augstas tīrības pakāpes 4N niķeļa izsmidzināšanas mērķis Apraksts Augstas tīrības pakāpes 4N niķeļa izsmidzināšanas mērķis ir izgatavots no augstas tīrības pakāpes niķeļa materiāla pēc

Pievienot izmeklēšanai
Hroms Rotary Sputter Target

Hroma rotācijas izsmidzināšanas mērķa apraksts Hromam ir laba oksidācijas un korozijas izturība, un tas var veidot stabilu oksīda plēvi dabiskajā vidē, lai aizsargātu metālu no turpmākas korozijas.

Pievienot izmeklēšanai
Cirkonija 702 apaļais izsmidzināšanas mērķis

Cirkonija 702 apaļās izsmidzināšanas mērķis Apraksts Plānās kārtiņas pārklājums (pārklājums) ir plānslāņa pārklājumu veidošanas un uzklāšanas process uz substrāta materiāliem, ko var izmantot, lai

Pievienot izmeklēšanai

Mēs esam labi pazīstami kā viens no vadošajiem izsmidzināšanas mērķa ražotājiem un piegādātājiem Ķīnā. Ja plānojat iegādāties augstas kvalitātes izsmidzināšanas mērķi ar konkurētspējīgu cenu, laipni lūdzam saņemt citātu no mūsu rūpnīcas. Ir pieejams arī pielāgots pakalpojums.

(0/10)