Sputtering Mērķis

Cirkonija rotējošie izsmidzināšanas mērķi

Cirkonija rotējošie izsmidzināšanas mērķi Apraksts Cirkonija rotējošie izsmidzināšanas mērķi ir izgatavoti no augstas tīrības cirkonija materiāla pēc virknes apstrādes, ar īpašu augstas tīrības

Pievienot izmeklēšanai
Cirkonija 702 plakanais mērķis

Cirkonijs 702 Planar Target Apraksts Cirkonijs ir metāla elements ar izcilu izturību pret koroziju, augstu kušanas temperatūru un labām mehāniskām īpašībām, padarot to noderīgu dažādos lietojumos,

Pievienot izmeklēšanai
Cirkonija 702 apaļais mērķis

Cirkonijs 702 Round Target Apraksts Cirkonijs ir spožs pelēkbalts spēcīgs pārejas metāls, ko plaši izmanto kodolrūpniecībā un aviācijā. Cirkonijs 702 Round Target bieži ir izgatavots no augstas

Pievienot izmeklēšanai
99,95% cirkonija izsmidzināšanas mērķi

99,95% cirkonija izsmidzināšanas mērķi Apraksts Magnetronu izsmidzināšana ir jauna fizikāla tvaiku pārklājuma metode, kas izmanto elektronu lielgabalu sistēmu, lai emitētu elektronus un koncentrētos

Pievienot izmeklēšanai
Augstas tīrības pakāpes titāna mērķi

Augstas tīrības pakāpes titāna mērķi Apraksts Titāns ir paramagnētisks ugunsizturīgs metāls ar spēcīgu stingrību un augstu izturību, īpaši vidē, kurā nav skābekļa. Attiecībā uz mērķiem, jo augstāka

Pievienot izmeklēšanai
Augstas tīrības pakāpes hroma izsmidzināšanas mērķis

Augstas tīrības pakāpes hroma izsmidzināšanas mērķis Apraksts Hroms ir tērauda pelēks, spīdīgs, ciets un trausls pārejas metāls. Augstas tīrības pakāpes hroma izsmidzināšanas mērķi parasti ražo,

Pievienot izmeklēšanai
99,5% bora izsmidzināšanas mērķi

99,5% bora izsmidzināšanas mērķi Apraksts Pārklājuma mērķis ir izsmidzināšanas avots, kas veido dažādas funkcionālas plēves uz pamatnes, izsmidzinot atbilstošos procesa apstākļos, izmantojot

Pievienot izmeklēšanai
Molibdēna (Mo) izsmidzināšanas mērķi

Molibdēna (Mo) izsmidzināšanas mērķi Apraksts Kā visprogresīvākā plānslāņa materiāla sagatavošanas tehnoloģijai izsmidzināšanai ir divas īpašības: liels ātrums un īpaši zema temperatūra. Molibdēna

Pievienot izmeklēšanai
Titāna metāla mērķis

Titanium Metal Target Apraksts Titanium Metal Target galvenokārt ražo ar elektronu staru kūļa dzesēšanas kausēšanas metodi. Tam ir augsta tīrība, augsta īpatnējā izturība, laba stingrība bezskābekļa

Pievienot izmeklēšanai
Niķeļa metāla izsmidzināšanas mērķi

Niķeļa metāla izsmidzināšanas mērķi Apraksts Rūpniecībā niķeli parasti izmanto sakausējumu sagatavošanā, akumulatoru ražošanā un kā katalizatoru. Īpaši mērķa materiālu jomā niķelis tiek plaši

Pievienot izmeklēšanai
Hroma metāla izsmidzināšanas mērķi

Hroma metāla izsmidzināšanas mērķi Apraksts Hromam ir augsta kušanas temperatūra un laba oksidācijas izturība, kas ļauj hroma mērķim palikt stabilam augstas temperatūras vidē. Turklāt hroma mērķu

Pievienot izmeklēšanai
TiAl titāna sakausējuma izsmidzināšanas mērķis

TiAl titāna sakausējuma izsmidzināšanas mērķis Apraksts Izsmidzināšanas mērķis attiecas uz izejmateriālu, ko izmanto izsmidzināšanas procesā. Tas attiecas uz procesu, kurā atomi tiek izmesti no cietā

Pievienot izmeklēšanai

Mēs esam labi pazīstami kā viens no vadošajiem izsmidzināšanas mērķa ražotājiem un piegādātājiem Ķīnā. Ja plānojat iegādāties augstas kvalitātes izsmidzināšanas mērķi ar konkurētspējīgu cenu, laipni lūdzam saņemt citātu no mūsu rūpnīcas. Ir pieejams arī pielāgots pakalpojums.

(0/10)